Produktbeschreibung: TA ist ein hochschmelzendes Metall mit einem Schmelzpunkt von 2996 °C.Das Zielprodukt weist eine gute Atombeständigkeit und Diffusionsleistung auf.
Anwendungen: Widerstands- und Diffusionsschichtfilm für integrierte Schaltkreise, Halbleiterfunktionsfilm usw.